סגסוגת דיוק גבוהה
סגסוגת בטמפרטורה גבוהה
◆1J50 בעל לולאת היסטרזיס מלבנית ואינדוקציה מגנטית רוויה גבוהה.הוא משמש בעיקר במגברי שדה מגנטי, סלילי משנק, סלילי מיישרים ורכיבי מכשירי מחשב הפועלים בשדות מגנטיים בינוניים.
◆1J79 בעל חדירות מגנטית ראשונית גבוהה, והוא מתאים לשנאים שונים, שנאים, מגברים מגנטיים, ליבות משנק ומגנים מגנטיים הפועלים בשדות מגנטיים חלשים.
◆3J53 בעל מקדם טמפרטורת בתדר נמוך בטווח של -40-80 מעלות צלזיוס, והוא משמש לוויברטור במסנן המכני, לקנה של ממסר הרטט ולרכיבים נוספים.
◆4J29(F15) בעל מקדם התפשטות תרמית ליניארי דומה לזה של זכוכית קשה בטווח טמפרטורות מסוים, והוא משמש להתאמה עם זכוכית קשה בתעשיית הוואקום.
◆4J36 היא סגסוגת ברזל ניקל מיוחדת עם התפשטות נמוכה עם מקדם התפשטות נמוך במיוחד, המשמשת בסביבה הדורשת מקדם התפשטות נמוך במיוחד.
◆4J42 משמש בעיקר בייצור מכשירי ואקום חשמליים, מכשירים מדויקים, ציוד גאודטי אסטרונומי עם דרישות יציבות גבוהות וכו'.
תרכובת כימית
| כיתה | C | Si | Mn | S | P | Cr | Ni | Mo | Cu | Fe | Al | Co | Ti |
| לא גדול מ | |||||||||||||
| 1J50 | 0.03 | 0.15 ~ 0.3 | 0.3 ~ 0.6 | 0.02 | 0.02 | - | 49.5 ~ 50.5 | - | ≤0.2 | בסיס | — | — | — |
| 1J79 | 0.03 | 0.3 ~ 0.5 | 0.6 ~ 1.1 | 0.02 | 0.02 | - | 78.5 ~ 80.5 | 3.8 ~ 4.1 | ≤0.2 | בסיס | — | — | — |
| 3J53 | 0.05 | 0.8 | 0.8 | 0.02 | 0.02 | 5.2 ~ 5.8 | 41.5 ~ 43 | 0.7 ~ 0.9 | — | בסיס | 0.5 ~ 0.8 | — | 2.3 ~ 2.7 |
| 4J29 | 0.03 | 0.3 | 0.5 | 0.02 | 0.02 | ＜0.2 | 28.5 ~ 29.5 | ＜0.2 | ≤0.2 | בסיס | — | 16.8-17.8 | — |
| 4J36 | 0.05 | 0.3 | 0.2 ~ 0.6 | 0.02 | 0.02 | - | 35 ~ 37 | - | — | בסיס | — | — | — |
| 4J42 | 0.05 | 0.3 | 0.8 | 0.02 | 0.02 | - | 41.5 ~ 42.5 | — | — | בסיס | ≤0.1 | ≤1.0 | - |
מינימום נכס סגסוגת
| כיתה | מגוון | תכונות מגנטיות | ||
| חדירות ראשונית uo(MH/m) | חדירות מרבית (Uh/m) | כפייתיות Hc(A/m) | ||
| 1J79 | פס מגולגל קר | ≥31 | ≥250 | ≤1.2 |
| מקל לוח תיל | ≥25 | ≥125 | ≤2.4 | |
| 1J50 | פס מגולגל קר | ≥3.8 | ≥62.5 | ≤9.6 |
| מוטות מזויפים (מגולגלים). | ≥3.1 | ≥31.3 | ≤14.4 | |
| כיתה | מדינה | מודול אלסטי E(Mpa) | חוזק מתיחה b(N/m㎡) | קשיות ח |
| 3J53 | עבודה קרה + יישון | 190000 ~ 215600 | 1170-1760 | 400 ~ 480 |
| כיתה | מקדם התרחבות ליניארי ממוצע(10-6℃) | ||||||
| 20 ~ 100℃ | 20 ~ 300℃ | 20 ~ 400℃ | 20 ~ 450℃ | 20 ~ 500℃ | 20 ~ 530℃ | 20 ~ 600℃ | |
| 4J29 | — | — | 4.6 ~ 5.2 | 5.1 ~ 5.5 | — | — | — |
| 4J50 | — | 9.2 ~ 10 | 9.2 ~ 9.9 | — | — | — | — |
| 4J36 | — | ≤1.5 | — | — | — | — | — |
| 4J42 | 5.5 | 4.6 | 5.8 | 6.7 | 7.6 | — | 9.1 |
